Пластина из ванадия высокой чистоты 99.5%-99.95%-ный метал-ванадиевый для Процесс PVD

Материал: ванадий
заявка: вакуумное покрытие, обработка поверхности,
форма: круглый, прямоугольный, гранулы
время доставки: 15 дней
ключевые слова: ванадиевая пластина, ванадиевая спилка
размер: по вашему запросу

Products Details

  • Обзор
  • Описание продукта
  • Информация о компании
  • ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Обзор

Основная Информация.

Модель №.
XK- V 02
чистота
99.9%,99.95%
основное применение
вакуумное покрытие, обработка поверхности, декор
химический состав
в.
moq
1 шт.
название продукта
пластина xk-vanadium
технологии
плавление
пакет
вакуумная упаковка
сертификат
iso9001:2015
Транспортная Упаковка
Vacuum Sealed Package Inside; Wooden Case Outside
Торговая Марка
XinKang
Происхождение
Hunan, China
Производственная Мощность
100000 Kilogram/Kilograms Per Month

Описание Товара

Описание продукта
 

 

Название продукта пластина из ванадия
Доступная чистота 99.5%min, по запросу
Доступная форма круглый, прямоугольный, гранулы
Размер В соответствии с вашим запросом
Техно Плавление
Предложение Мы производим и можем разбить в соответствии с коэффициентом сплава клиента. Для получения дополнительной информации обратитесь к менеджеру по продажам (Цена на название указана только для справки. Обратитесь к продавческому представителю для получения конкретной квоты)
Приложение Покрытие Vaccum, процесс, украшение, светодиод, полуавтоматический,
Связанные продукты W, Mo, Ta, NB, Ti, Ni, Zn, Cu и т.д.

 

Информация о компании
High Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD Process
High Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD Process


 
ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

 

1. Вы торгуете компанией или производителем?

 Xinkang:мы являемся профессиональным производителем, специализирующимся в этой области более 10 лет.

 

2. Сколько времени у вас на доставку?

 XinKang:Доставка может быть выполнена в течение 3–5 дней для обычных образцов или 15 дней для партии.

 

3. У вас есть MOQ?

XinKang:No, мы поддерживаем образцы.

 

4.какой способ оплаты Вы используете?

 XinKang:T/T заранее, Paypal, Western Union и т.д.

 

 

Добро пожаловать в любое время!

 

 

Свяжитесь с нами

Пожалуйста, не стесняйтесь дать свой запрос в форме ниже мы ответим вам в течение 24 часов